[发明专利]硅基高性能β辐伏电池及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201610975147.1 申请日: 2016-11-07
公开(公告)号: CN106531828B 公开(公告)日: 2017-09-26
发明(设计)人: 向勇军;杨玉青;黄烈云 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十四研究所
主分类号: H01L31/042 分类号: H01L31/042;H01L31/0216;H01L31/18
代理公司: 重庆辉腾律师事务所50215 代理人: 侯懋琪,侯春乐
地址: 400060 重庆*** 国省代码: 重庆;85
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摘要: 发明提出了一种硅基高性能β辐伏电池,所述硅基高性能β辐伏电池由N型硅外延层、P型保护环、P型有源区、N型硅衬底、二氧化硅层、氮化硅层、电极、电极层和硼硅玻璃层组成;本发明还提出了一种硅基高性能β辐伏电池的制作方法;本发明的有益技术效果是提供了一种硅基高性能β辐伏电池及其制作方法,相比于现有技术,该辐伏电池具有较高的输出功率和抗辐射能力。
搜索关键词: 硅基高 性能 电池 及其 制作方法
【主权项】:
一种硅基高性能β辐伏电池,其特征在于:所述硅基高性能β辐伏电池由N型硅外延层(1)、P型保护环(2)、P型有源区(3)、N型硅衬底(4)、二氧化硅层(5)、氮化硅层(6)、电极(7)、电极层(8)和硼硅玻璃层(9)组成;所述N型硅外延层(1)形成在N型硅衬底(4)的上端面上,所述P型保护环(2)和P型有源区(3)均形成在N型硅外延层(1)上端的表层中,P型保护环(2)环绕在P型有源区(3)的周向外围,P型保护环(2)内壁与P型有源区(3)的外壁接触;所述硼硅玻璃层(9)设置在N型硅外延层(1)的上端面上,硼硅玻璃层(9)和P型有源区(3)的周向轮廓相同;二氧化硅层(5)设置在N型硅外延层(1)的上端面上,二氧化硅层(5)将N型硅外延层(1)上端面上硼硅玻璃层(9)以外的区域覆盖;氮化硅层(6)覆盖在二氧化硅层(5)和硼硅玻璃层(9)的表面;P型保护环(2)正上方的结构体中设置有电极孔,电极(7)设置在电极孔中,电极层(8)设置在N型硅衬底(4)的下端面上。
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