[发明专利]辐照介质的装置和方法有效

专利信息
申请号: 201610977103.2 申请日: 2010-09-17
公开(公告)号: CN106644947B 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 增村考洋 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G01N21/17 分类号: G01N21/17;G01N21/47;G03H1/02;G03H1/04;G03H1/22;G03H1/26;G03H1/28
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 曾琳
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开涉及辐照介质的装置和方法。一种用于辐照介质的方法包括:用电磁波辐照介质,所述电磁波在所述介质中散射,并且在所述介质中的某位置处被调制频率;获得与由调制的电磁波与参考波之间的干涉产生的干涉图案对应的信息;并且基于所获得的信息来产生辐照所述介质的相位共轭波。
搜索关键词: 辐照 介质 装置 方法
【主权项】:
一种装置,包括:第一辐照单元,其包括发射电磁波的电磁波源,以用在介质中散射的所述电磁波辐照所述介质;超声器件,其将超声波发送到所述介质,以在所述介质中的某位置处对所述电磁波的频率进行调制;和第二辐照单元,其用参考波辐照全息材料,以记录与由调制的电磁波与参考波之间的干涉产生的干涉图案对应的信息,其中,在所述信息被记录在所述全息材料上之后,所述第一辐照单元被构造为辐照所述全息材料,以使得所述全息材料产生重构波,所述重构波在所述介质中的所述位置处辐照所述介质。
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