[发明专利]半导体制造信息的处理方法和处理系统

摘要

一种半导体制造信息的处理方法和处理系统，本发明技术方案能够较全面的反应半导体制造工厂的运行状况，并能够及时准确的反应半导体制造工厂运行过程中的异常波动，降低了对半导体制造工厂运行状况分析的难度，提高了分析的便捷性。而且所述生产质量指数、所述制程稳定性指数、所述异常发生率指数、所述报废成本指数以及所述早期侦测指数互相联动，能够全面反映异常事件对半导体制造工厂整体运行状况的影响，便于针对性的进行技术改进。

主权项

1.一种半导体制造信息的处理方法，用于对半导体制造工厂进行分析，所述半导体制造工厂包括：生产系统、监测系统、量测系统以及售后系统，其特征在于，所述处理方法包括：从所述生产系统、监测系统以及量测系统获得质量稽核数据，所述质量稽核数据包括异常操作事件信息；根据所述质量稽核数据，获得生产质量指数，所述生产质量指数用于判断所述半导体制造工厂爆发突发事件的可能；从所述生产系统获得晶圆总量以及与产品相对应的产品晶圆量；从所述量测系统获得与产品相对应的产品合格率；根据所述晶圆总量、所述产品合格率和所述产品晶圆量，获得制程稳定性指数，所述制程稳定性指数用于判断产线的稳定程度；从所述量测系统获得异常事件数；从所述生产系统获得晶圆总产量；根据所述异常事件数和所述晶圆总产量，获得异常发生率指数，所述异常发生率指数用于判断所述半导体制造工厂对异常事件的管控能力；从所述生产系统和所述售后系统获得晶圆总成本和报废成本；根据所述晶圆总成本和所述报废成本，获得报废成本指数，所述报废成本指数用于判断所述半导体制造工厂的成本损失；从所述监测系统获得工程异常报告数以及异常事件侦测记录，所述异常事件侦测记录包括每个工程异常报告的侦测时间和每个工程异常报告的侦测步骤；根据所述工程异常报告数以及所述异常事件侦测记录，获得早期侦测指数，所述早期侦测指数用于判断所述半导体制造工厂对异常事件的早期侦测能力；根据所述生产质量指数、所述制程稳定性指数、所述异常发生率指数、所述报废成本指数和所述早期侦测指数，对半导体制造工厂进行分析。