[发明专利]特气管路、PECVD设备及硅片镀膜调整方法有效

专利信息
申请号: 201611003708.8 申请日: 2016-11-15
公开(公告)号: CN106328477B 公开(公告)日: 2019-01-18
发明(设计)人: 张晓朋;李翠双;陈志军;甄云云;刘少华;陈晨 申请(专利权)人: 英利能源(中国)有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;H01L21/67;H01L31/18
代理公司: 石家庄国为知识产权事务所 13120 代理人: 王荣君
地址: 071051 河*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明提供一种特气管路、PECVD设备及硅片镀膜调整方法,属于太阳能电池制备技术领域。本发明包括多段特气管,多段特气管的数量等于排列在石墨舟上的硅片的行数加二或列数加二,多段特气管呈一行或一列并与石墨舟上的硅片行或列平行,处于中间部位的各段特气管分别对应一行或一列硅片,处于两端的两个特气管对称分设在呈行列排布的硅片的两端,每段特气管上设有多个特气孔并设有进气孔,每段特气管均设有控制氨气和硅烷流量的质量流量计。本发明能够实现太阳能硅片镀膜膜厚折射率均匀精细调整,减少太阳能电池的色差,提高电池的转换效率。
搜索关键词: 管路 pecvd 设备 硅片 镀膜 调整 方法
【主权项】:
1.一种特气管路,其特征在于包括多段特气管,多段特气管的数量等于排列在石墨舟(13)上的硅片的行数加二或列数加二,多段特气管呈一行或一列并与石墨舟上的硅片行或列平行,处于中间部位的各段特气管分别对应一行或一列硅片,处于两端的两个特气管对称分设在呈行列排布的硅片的两端,每段特气管上设有多个特气孔(15)并设有进气孔(14),每段特气管均设有控制氨气和硅烷流量的质量流量计;两端的特气管对应的是石墨舟(13)的边框;呈一行或一列排列的多段特气管位于所述石墨舟的外周;各特气管段之间留有间隙;与硅片对应的特气管上的特气孔(15)的数量相同,处于两端的两个特气管上的特气孔(15)的数量少于硅片对应的特气管上的特气孔(15)的数量,每段特气管上的特气孔(15)均沿各自特气管的长度方向均布,且各特气孔(15)呈一直线排列,特气孔的开孔方向面向硅片;特气孔(15)直径为0.5‑1.0mm。
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