[发明专利]一种用于碳化硅高温退火表面保护的碳膜快速制备方法

摘要

本发明提供了一种用于碳化硅高温退火表面保护的碳膜快速制备方法，即在碳化硅器件离子注入激活前旋涂光敏抗蚀剂，对旋涂在碳化硅正反面的光敏抗蚀剂进行快速热退火，热分解后形成均匀碳膜；高温退火激活过程中，碳膜抑制碳化硅器件表层的碳化硅材料分解；退火激活后，通过热氧化彻底去除碳膜。本发明可以有效地保护碳化硅器件表面，降低高温退火引起碳化硅器件表面粗糙度，显著增加碳化硅离子注入激活工艺的效率。

主权项

一种碳化硅高温退火表面保护碳膜的快速制备方法，其特征在于：碳化硅器件高温激活前，在碳化硅器件的正、反两面旋涂光敏抗蚀剂，低温烘烤去除光致抗蚀剂中的有机溶剂；通过快速热退火方法使光致抗蚀剂在无氧环境下热分解，形成均匀的碳膜；覆盖有碳膜的碳化硅器件在高温下进行退火激活杂质离子；杂质离子注入激活后，在纯氧气和高温环境下，去除碳化硅器件正、反两面的碳膜。