[发明专利]抗静电光学膜层及其制造方法有效
申请号: | 201611022697.8 | 申请日: | 2016-11-17 |
公开(公告)号: | CN106896427B | 公开(公告)日: | 2018-12-25 |
发明(设计)人: | 黄帝钧;吴秋蕙 | 申请(专利权)人: | 住华科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B1/16 | 分类号: | G02B1/16 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 梁挥;鲍俊萍 |
地址: | 中国台湾台南*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种抗静电光学膜层及其制造方法。抗静电光学膜层包括一偏光板、一树脂层以及多个金属离子。树脂层设置于偏光板上,金属离子吸附于树脂层的一表面上。本发明中,金属离子结合至树脂层的表面,借由金属离子的导电能力,因而可以不需要额外设置具有抗静电功能的光学膜,抗静电光学膜层便可具有优良光学特性以及良好的抗静电功能。 | ||
搜索关键词: | 抗静电 光学 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种抗静电光学膜层,其特征在于,包括:一偏光板;一树脂层,设置于该偏光板上;以及多个金属离子,该多个金属离子吸附于该树脂层的一表面上。
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