[发明专利]吡咯素分子印迹材料及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201611031937.0 申请日: 2016-11-22
公开(公告)号: CN108084446B 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 刘慧琳;穆琳;王静 申请(专利权)人: 北京工商大学
主分类号: C08G83/00 分类号: C08G83/00;C08J9/28;C08J9/26;G01N30/02;B01J20/22;B01J20/26;B01J20/30
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 陈静;严政
地址: 100048*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及技术及食品安全检测方法研究领域,公开了一种吡咯素分子印迹材料及其制备方法和应用,该分子印迹材料中含有金属有机框架材料和模板分子,所述模板分子选自吡咯素、吡咯和吡咯烷甲酸中的至少一种。本发明提供的吡咯素分子印迹材料对吡咯素有高选择性,能够用于建立一种高效、便携、快速、灵敏的分子印迹体系,从而能够快速简便地从例如食品中检测出吡咯素残留。
搜索关键词: 吡咯 分子 印迹 材料 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种吡咯素分子印迹材料,其特征在于,该分子印迹材料中含有金属有机框架材料和模板分子,所述模板分子选自吡咯素、吡咯和吡咯烷甲酸中的至少一种。
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