[发明专利]选择性近红外光响应形状记忆聚合物复合材料及其制备方法有效
| 申请号： | 201611043229.9 | 申请日： | 2016-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN106750529B | 公开（公告）日： | 2019-04-19 |
| 发明（设计）人： | 方亮;方天余;陈顺平;方姣姣;陆春华;许仲梓 | 申请（专利权）人： | 南京工业大学 |
| 主分类号： | C08K5/56 | 分类号： | C08K5/56;C08L23/08;C08L33/12;C08F220/14;C08F222/14;C07F5/00 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 柏尚春 |
| 地址： | 211800 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种选择性近红外光响应形状记忆聚合物复合材料，采用稀土有机配合物作为选择性光热填料，采用热致形状记忆聚合物作为聚合物基体材料；所述稀土有机配合物的通式为RMmNn，其中：R表示镱或钕；M表示羧酸类有机配体，m＝0‑4；N表示共轭类有机配体，n＝0‑4。本发明还公开了选择性近红外光响应形状记忆聚合物复合材料的制备方法，也即通过物理方法和/或化学方法将选择性光热填料和聚合物基体材料混合制备得到。其中，聚合物基体材料为100份，物理方法混合时光热填料为0.1‑50份，化学方法混合时光热填料为0.1‑20份。本发明有效降低了选择性光热填料的成本，有利于选择性光响应形状记忆聚合物的推广应用。 | ||
| 搜索关键词： | 形状记忆聚合物 聚合物基体材料 选择性光热 近红外光 复合材料 制备 稀土有机配合物 响应 有机配体 光热 热致形状记忆聚合物 选择性光 羧酸类 共轭 | ||
【主权项】：
1.选择性近红外光响应形状记忆聚合物复合材料，其特征在于：采用稀土有机配合物作为选择性光热填料，采用EVA或PMMA作为聚合物基体材料；所述稀土有机配合物的通式为RMmNn，其中：R表示镱或钕；M表示羧酸类有机配体，m＝0‑4；N表示共轭类有机配体，n＝0‑4；聚合物基体材料为100份，采用化学方法将光热填料与聚合物基体材料混合时的光热填料为0.1‑20份。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京工业大学，未经南京工业大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201611043229.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
