[发明专利]非易失记忆单元和相关操作方法有效
申请号: | 201611045249.X | 申请日: | 2016-11-24 |
公开(公告)号: | CN107871745B | 公开(公告)日: | 2020-04-24 |
发明(设计)人: | 陈学威;陈纬仁;孙文堂 | 申请(专利权)人: | 力旺电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/11519 | 分类号: | H01L27/11519;H01L27/11521 |
代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人: | 江耀纯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种非易失记忆单元,包括一基板、一选择闸极、一浮动闸极,以及一辅助控制闸极。基板包括一第一扩散区、一第二扩散区、一第三扩散区,以及一第四扩散区。选择闸极形成于一多晶硅层内,且位于第一扩散区和第二扩散区上。浮动闸极形成于多晶硅层内,且位于第二扩散区、第三扩散区和第四扩散区上。辅助控制闸极形成于一金属层内,且位于浮动闸极上,其中辅助控制闸极的一部分面积至少覆盖浮动闸极的一半面积。因此,辅助控制闸极和浮动闸极之间所形成的金属‑多晶硅电容可作为浮动闸极的额外耦合节点,进而改善非易失记忆单元的读取效率和抹除效率。 | ||
搜索关键词: | 非易失 记忆 单元 相关 操作方法 | ||
【主权项】:
一种非易失记忆单元,其特征在于,包括:一基板,其包括一第一扩散区、一第二扩散区、一第三扩散区,以及一第四扩散区;一选择闸极,形成于一多晶硅层内,且位于所述第一扩散区和所述第二扩散区上;一浮动闸极,形成于所述多晶硅层内,且位于所述第二扩散区、所述第三扩散区和所述第四扩散区上;以及一辅助控制闸极,形成于一金属层内,且位于所述浮动闸极上,其中所述辅助控制闸极的一部分面积至少覆盖所述浮动闸极的一半面积。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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