[发明专利]一种用于双面研磨抛光设备上的单面抛光系统在审
申请号: | 201611046819.7 | 申请日: | 2016-11-23 |
公开(公告)号: | CN106737128A | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | 刘南柳;陈蛟;张国义 | 申请(专利权)人: | 东莞市中镓半导体科技有限公司 |
主分类号: | B24B37/10 | 分类号: | B24B37/10;B24B37/30;B24B7/22 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司44102 | 代理人: | 罗晓林,杨桂洋 |
地址: | 523000 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于双面研磨抛光设备上的单面抛光系统,包括设置在双面研磨抛光设备上的上抛光盘和下抛光盘之间的游星轮,所述游星轮内设有通孔,该通孔中设有填充物,待抛光工件放置于游星轮的通孔内且该待抛光工件一端面与填充物接触,该填充物可设置在游星轮内上部与上抛光盘的抛光表面接触,或者设置在游星轮内下部与下抛光盘的抛光表面接触,并且上抛光盘或者下抛光盘上设置缓冲层,用于盖合游星轮。本发明在实现材料单面抛光的目的下,还能减少设备购置资金,降低加工成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 双面 研磨 抛光 设备 单面 系统 | ||
【主权项】:
一种用于双面研磨抛光设备上的单面抛光系统,包括设置在双面研磨抛光设备上的上抛光盘和下抛光盘之间的游星轮,其特征在于,所述游星轮内设有通孔,该通孔中设有填充物,待抛光工件放置于游星轮的通孔内且该待抛光工件一端面与填充物接触。
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