[发明专利]主动对焦机构、光路系统及激光直写光刻机在审

专利信息
申请号: 201611051328.1 申请日: 2016-11-25
公开(公告)号: CN106773538A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 莫阳 申请(专利权)人: 天津津芯微电子科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371 代理人: 马维丽
地址: 300457 天津市滨海新区天津经济技术开发区黄海路1*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明提供了一种主动对焦机构、光路系统及激光直写光刻机,涉及光刻技术领域,本发明提供的一种主动对焦机构,包括分光模块、自动对焦模块、Z轴模块、XY轴载物平台,分光模块对自动对焦模块发出的光束进行分光,使光束通过Z轴模块投射至XY轴载物平台,XY轴载物平台用于放置曝光基底;XY轴载物平台包括位于水平方向的二维自由度,能够实现XY轴联动;Z轴模块具有与水平方向垂直的一维自由度,能够在Z轴方向上自由移动,实现对焦调节。通过主动对焦机构,可以解决曝光基底的翘曲和不平整的问题,并且可以解决不同厚度的基板的曝光问题。相对传统的对焦方式,本发明具有对焦时间短,精度高的优点,能够有效的提高了光刻机的产能和光刻质量。
搜索关键词: 主动 对焦 机构 系统 激光 光刻
【主权项】:
一种主动对焦机构,用于具有自动齐焦功能的激光直写光刻机,其特征在于,包括分光模块、自动对焦模块、Z轴模块、XY轴载物平台,其中,所述分光模块对所述自动对焦模块发出的光束进行分光,使所述光束通过所述Z轴模块投射至所述XY轴载物平台;所述XY轴载物平台用于放置需要进行曝光的曝光基底;所述XY轴载物平台包括位于水平方向的二维自由度,能够实现XY轴联动;所述Z轴模块具有与水平方向垂直的一维自由度,能够在Z轴方向上自由移动,实现对焦调节。
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