[发明专利]高金刚烷衍生物、其制备方法以及光致抗蚀剂组合物在审
| 申请号： | 201611070783.6 | 申请日： | 2011-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN107021948A | 公开（公告）日： | 2017-08-08 |
| 发明（设计）人： | 田中慎司;上野山义崇;大野英俊;河野直弥;伊藤克树 | 申请（专利权）人： | 大阪有机化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C07D313/10 | 分类号： | C07D313/10;C08F220/18;C08F222/14;C08F220/28;G03F7/004;G03F7/039 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 梅黎,罗文锋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及高金刚烷衍生物、其制备方法以及光致抗蚀剂组合物。本发明提供了一种在用于正型光致抗蚀剂时，粗糙度降低、溶解性、互溶性、缺陷降低、曝光灵敏度等优异的聚合物、以及形成其的单体。本发明的化合物是下述式（I）所表的化合物。式中，R1表示氢原子、卤素原子、甲基或三氟甲基。 | ||
| 搜索关键词： | 金刚 衍生物 制备 方法 以及 光致抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
下述式（I）所示的化合物，式中，R1表示氢原子、卤素原子、甲基或三氟甲基。
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