[发明专利]微影方法在审
| 申请号： | 201611071435.0 | 申请日： | 2016-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN107045263A | 公开（公告）日： | 2017-08-15 |
| 发明（设计）人： | 訾安仁;张庆裕 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/34 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司72003 | 代理人： | 王芝艳 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开提供半导体装置的形成方法与材料。此方法包含形成光致抗蚀剂于基板上。光致抗蚀剂包含酸活性基团(ALG)连接至极性单元。此方法亦包含以射线束曝光光致抗蚀剂、烘烤光致抗蚀剂；以及对光致抗蚀剂进行显影工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 方法 | ||
【主权项】：
一种微影方法，包括：形成一光致抗蚀剂于一基板上，其中该光致抗蚀剂包含一酸活性基团连接至一极性单元；以一射线束曝光该光致抗蚀剂；烘烤该光致抗蚀剂；以及对该光致抗蚀剂进行一显影工艺。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司，未经台湾积体电路制造股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201611071435.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：二力平衡趣味实验小车
- 下一篇：伽利略望远镜原理模拟装置
