[发明专利]一种含埋氧层结构的光电探测器有效

专利信息
申请号: 201611075193.2 申请日: 2016-11-29
公开(公告)号: CN106356419B 公开(公告)日: 2017-09-22
发明(设计)人: 张有润;钟晓康;刘影;李明晔;刘凯;胡刚毅;张波 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L31/105 分类号: H01L31/105;H01L31/101;H01L31/0352;H01L31/0232
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙)51232 代理人: 葛启函
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明涉及半导体器件领域,特别是一种含埋氧层结构的光电探测器,可进行可见光到红外光的探测。其中Ge PIN型光电二极管和Si PIN型光电二极管通过含埋氧层的重掺杂N型Si层背靠背相连,利用Si PIN型光电二极管和Ge PIN型光电二极管分别对短波和长波有较高响应的特点,实现可见光到红外光波段的探测;钝化层既有钝化器件的作用,又有减少短波反射的作用;埋氧层与N型硅层形成布拉格反射镜,可以反射0.85μm左右波段的短波光子,加强Si PIN型光电二极管对0.85μm左右波段短波的吸收;第一金属阳极接触同时作为电极和金属镜,起到加电压和反射长波光子的作用,加强Ge PIN型光电二极管对长波光子的吸收;而且本发明涉及的光电二极管工作电压较低,易与前置放大器混合集成。
搜索关键词: 一种 含埋氧层 结构 光电 探测器
【主权项】:
一种含埋氧层结构的光电探测器,包括:由重掺杂P型Ge层(7)、含埋氧层(5)的重掺杂N型Si层(4)和中间掺入的本征Ge层(6)构成的一个Ge PIN型光电二极管以及由含埋氧层(5)的重掺杂N型Si层(4)、重掺杂P型Si层(2)和中间掺入的本征Si层(3)构成的一个Si PIN型光电二极管通过含埋氧层(5)的重掺杂N型Si层(4)背靠背相连;所述埋氧层(5)与重掺杂N型Si层(4)形成布拉格反射镜;含埋氧层(5)的重掺杂N型Si层(4)、本征Ge层(6)和重掺杂P型Ge层(7)构成一个平面结构(12),本征Si层(3)和重掺杂P型Si层(2)构成一个台面结构(11);重掺杂P型Ge层(7)下表面设有第一金属阳极接触(8),在含埋氧层(5)的重掺杂N型Si层(4)上表面左右两侧设有金属阴极接触(9),在重掺杂P型Si层(2)上表面左右两侧设有第二金属阳极接触(10);台面结构(11)上表面、侧壁和平面结构(12)上表面左右两侧淀积有一层钝化层(1)。
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