[发明专利]聚合物、有机层组合物及形成图案的方法有效
申请号: | 201611079474.5 | 申请日: | 2016-11-30 |
公开(公告)号: | CN106883380B | 公开(公告)日: | 2019-11-19 |
发明(设计)人: | 南沇希;金瑆焕;金旼秀;朴惟廷;郑瑟基 | 申请(专利权)人: | 三星SDI株式会社 |
主分类号: | C08G61/02 | 分类号: | C08G61/02;C08L65/00;C09D165/00;G03F7/00;G03F7/09 |
代理公司: | 11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人: | 陶敏;臧建明<国际申请>=<国际公布>= |
地址: | 韩国京畿道龙仁*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: |
本发明涉及一种聚合物、有机层组合物及形成图案的方法。所述聚合物包含由化学式1表示的结构单元:其中Ar1及Ar2独立地为经取代或未经取代的苯环或包含两个至四个稠合的经取代或未经取代的苯环的芳环,A1及A2独立地为经取代或未经取代的芳环,其限制条件是A1及A2中的至少一者经氢可键结官能基取代,且A1的氢可键结官能基的数量与A2的氢可键结官能基的数量的总和大于或等于3,L为二价有机基,且*为连接点。本发明的聚合物具有令人满意的溶解性特征以及优异的机械特征、耐蚀刻性及耐热性。[化学式1] |
||
搜索关键词: | 聚合物 官能基 键结 苯环 芳环 耐热性 有机层组合物 二价有机基 机械特征 耐蚀刻性 限制条件 连接点 稠合 图案 | ||
【主权项】:
1.一种聚合物,其特征在于,包含由化学式1表示的结构单元:/n[化学式1]/n /n其中,在化学式1中,/nAr1及Ar2独立地为经取代或未经取代的苯环或包含两个至四个稠合的经取代或未经取代的苯环的芳环,/nA1及A2独立地为经取代或未经取代的芳环,其限制条件是A1及A2中的至少一者经氢可键结官能基取代,且A1的氢可键结官能基的数量与A2的氢可键结官能基的数量的总和大于或等于3且小于或等于6,所述氢可键结官能基为羟基、胺或其组合,/nL为二价有机基,且/n*为连接点。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星SDI株式会社,未经三星SDI株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201611079474.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种芴类多官能度光引发剂及其制备和应用
- 下一篇:利用薄膜冷却的发动机构件