[发明专利]一种等离子体轰击制备金属网络透明导电电极的方法

摘要

本发明公开了一种等离子体轰击制备金属网络透明导电电极的方法，包括以下步骤：(1)衬底涂布光刻胶；(2)光刻胶固定；(3)制作龟裂模板网络；(4)等离子体轰击光刻胶成网；(5)纳米金属网络形成；(6)去除光刻胶；(7)粘附性处理。该方法制备的透明导电电极具有投入低，产率较高，工艺简单，造价低廉，易于卷对卷工业化生产等优点，同时电极导电性较好，透明率高，可替代或者部分替代ITO导电玻璃。

主权项

1.一种等离子体轰击制备金属网络透明导电电极的方法，其特征是包括以下步骤：(1)衬底涂布光刻胶：选择清洁透明衬底，涂布光刻胶，并控制光刻胶的厚度；(2)光刻胶固定：对衬底加热保温后进行紫外曝光处理，将光刻胶固化，形成光刻胶薄膜；(3)制作龟裂模板：配制溶胶状态的龟裂液，将龟裂液设置在固化后的光刻胶薄膜上形成龟裂液薄膜，加热并控制温度和保温时间，使龟裂液薄膜自然龟裂形成龟裂模板；(4)等离子体成网：采用等离子体轰击龟裂模板，去除龟裂模板裂缝中的光刻胶，控制等离子体的轰击时间和温度，在光刻胶薄膜上形成龟裂裂缝网络，用去离子水处理样品表面，去除龟裂模板及裂缝处的光刻胶残余；(5)纳米金属网络形成：将悬浮纳米金属颗粒液体填入龟裂裂缝网络形成纳米金属网络，退火形成稳定线状网络；(6)去除光刻胶：将衬底置于光刻胶清洗液中，去除光刻胶，剩余纳米金属网络；(7)粘附性处理：在纳米金属网络表面喷涂UV胶，风干，调整纳米金属网络的平整度和厚度，随后进行紫外光曝光，形成附着力强的金属网络透明导电电极。