[发明专利]一种调焦调平装置在审
申请号: | 201611089618.5 | 申请日: | 2016-11-30 |
公开(公告)号: | CN108121179A | 公开(公告)日: | 2018-06-05 |
发明(设计)人: | 蓝科;王诗华 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;G03F7/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种调焦调平装置,包括依次设置在光束传播方向上的照明单元、带投影狭缝标记的投影标记板、投影成像组、折光棱镜、分光镜、探测单元及信号处理单元,所述照明单元产生的光束经所述投影标记板后形成测量光斑,所述投影成像组将所述测量光斑成像至基底表面,所述分光镜用于将经所述基底表面第二次反射的光束折转至所述探测单元,所述信号处理单元根据所述探测单元测得的探测光斑计算所述基底表面的离焦倾斜量。所述调焦调平装置中的各个机构均集中在基底的同一侧,节省了结构空间;另外,所述调焦调平装置使光束两次经过基底表面,导致基底的离焦、倾斜对探测光斑成像位置的影响加倍,探测精度加倍。 | ||
搜索关键词: | 调焦调平装置 基底表面 探测单元 信号处理单元 投影标记 投影成像 照明单元 分光镜 基底 离焦 测量 探测光斑成像 光斑成像 光束传播 光束折转 结构空间 探测光斑 投影狭缝 依次设置 折光棱镜 光斑 倾斜量 反射 探测 | ||
【主权项】:
一种调焦调平装置,其特征在于,包括依次设置在光束传播方向上的照明单元、带投影狭缝标记的投影标记板、投影成像组、折光棱镜、分光镜、探测单元及信号处理单元,所述照明单元产生的光束经所述投影标记板后形成测量光斑,所述投影成像组将所述测量光斑成像至基底表面,所述折光棱镜用于将经所述基底表面第一次反射的光束折转后再次入射至所述基底表面,所述分光镜用于将经所述基底表面第二次反射的光束折转至所述探测单元,所述信号处理单元根据所述探测单元测得的探测光斑计算所述基底表面的离焦倾斜量。
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