[发明专利]半导体器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201611092388.8 申请日: 2016-11-29
公开(公告)号: CN106816438B 公开(公告)日: 2020-07-10
发明(设计)人: 李陈毅;黄士芬;王培伦;何大椿;钟于彰;穆罕默德·阿尔-夏欧卡;亚历克斯·卡尔尼茨基 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L21/8234
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的一些实施例提供了一种半导体器件。该半导体器件包括:第一晶体管,被配置为包括第一阈值电压水平。该第一晶体管包括栅极结构。该栅极结构包括:包括第一导电类型的第一部件。第二晶体管被配置为包括与第一阈值电压水平不同的第二阈值电压水平。该第二晶体管包括栅极结构。该栅极结构包括:包括第一导电类型的第二部件。至少一个额外部件设置在第二部件上方。该至少一个额外部件包括与第一导电类型相反的第二导电类型。连接第一晶体管和第二晶体管以通过第一阈值电压水平和第二阈值电压水平之间的期望电压差确定至少一个额外部件的数量。本发明还提供了另一种半导体器件和一种制造半导体器件的方法。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种半导体器件,包括:第一晶体管,被配置为包括第一阈值电压水平,所述第一晶体管包括栅极结构,所述栅极结构包括:包括第一导电类型的第一部件;第二晶体管,被配置为包括不同于所述第一阈值电压水平的第二阈值电压水平,所述第二晶体管包括栅极结构,所述栅极结构包括:包括所述第一导电类型的第二部件;至少一个额外部件,设置在所述第二部件上方,其中,所述至少一个额外部件包括与所述第一导电类型相反的第二导电类型,并且所述第一晶体管和所述第二晶体管被连接,使得通过所述第一阈值电压水平与所述第二阈值电压水平之间的期望电压差确定所述至少一个额外部件的数量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201611092388.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top