[发明专利]半导体器件及其制造方法有效
申请号: | 201611092388.8 | 申请日: | 2016-11-29 |
公开(公告)号: | CN106816438B | 公开(公告)日: | 2020-07-10 |
发明(设计)人: | 李陈毅;黄士芬;王培伦;何大椿;钟于彰;穆罕默德·阿尔-夏欧卡;亚历克斯·卡尔尼茨基 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/088 | 分类号: | H01L27/088;H01L21/8234 |
代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;李伟 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的一些实施例提供了一种半导体器件。该半导体器件包括:第一晶体管,被配置为包括第一阈值电压水平。该第一晶体管包括栅极结构。该栅极结构包括:包括第一导电类型的第一部件。第二晶体管被配置为包括与第一阈值电压水平不同的第二阈值电压水平。该第二晶体管包括栅极结构。该栅极结构包括:包括第一导电类型的第二部件。至少一个额外部件设置在第二部件上方。该至少一个额外部件包括与第一导电类型相反的第二导电类型。连接第一晶体管和第二晶体管以通过第一阈值电压水平和第二阈值电压水平之间的期望电压差确定至少一个额外部件的数量。本发明还提供了另一种半导体器件和一种制造半导体器件的方法。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种半导体器件,包括:第一晶体管,被配置为包括第一阈值电压水平,所述第一晶体管包括栅极结构,所述栅极结构包括:包括第一导电类型的第一部件;第二晶体管,被配置为包括不同于所述第一阈值电压水平的第二阈值电压水平,所述第二晶体管包括栅极结构,所述栅极结构包括:包括所述第一导电类型的第二部件;至少一个额外部件,设置在所述第二部件上方,其中,所述至少一个额外部件包括与所述第一导电类型相反的第二导电类型,并且所述第一晶体管和所述第二晶体管被连接,使得通过所述第一阈值电压水平与所述第二阈值电压水平之间的期望电压差确定所述至少一个额外部件的数量。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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