[发明专利]一种检测器的校正方法和使用该校正方法的装置及设备有效
| 申请号： | 201611096516.6 | 申请日： | 2016-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN106361367B | 公开（公告）日： | 2019-10-08 |
| 发明（设计）人： | 刘炎炎 | 申请（专利权）人： | 上海联影医疗科技有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/03 | 分类号： | A61B6/03 |
| 代理公司： | 上海容慧专利代理事务所(普通合伙) 31287 | 代理人： | 于晓菁 |
| 地址： | 201807 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种检测器的校正方法和使用该校正方法的装置及设备，该校正方法包括以下两个步骤：步骤1是通过测量栅格片倾斜角度或者利用CT机的不同焦点计算，而得到探测器的遮挡比例，步骤2是利用遮挡比例进行散焦校正。该方法可以有效避免因栅格片倾斜导致的图像产生弧状或条状伪影而引起的重新拆解和安装，从而快速、便捷地检测栅格片的倾斜角度并实现图像校正，避免伪影的产生。 | ||
| 搜索关键词： | 校正 检测器 装置及设备 栅格片 遮挡 测量栅格 散焦校正 条状伪影 图像产生 图像校正 探测器 拆解 弧状 伪影 检测 焦点 | ||
【主权项】：
1.一种探测器的校正方法，其特征在于：是通过对X射线管内的散射校正来进行，包括以下两个步骤：步骤1是通过测量栅格片倾斜角度或者利用CT机提供的不同焦点计算，而得到探测器的遮挡比例，步骤2是利用遮挡比例进行散焦校正；步骤2是根据遮挡比例生成一系列卷积核，对每个探测器的响应进行卷积运算来进行散焦校正，步骤2中用来计算卷积核的公式为：Kernel＝Iofffocus*Attfiltration*SASG*k*(1+ratio)其中Iofffocus为散焦强度，Attfiltration为CT机滤过的衰减，SASG为防散射栅格片的理论遮挡，ratio为遮挡比例，k为比例系数；步骤1中用于计算探测器的遮挡比例的公式为：![]()
其中A1和A2分别为两个焦点下的探测器响应；或者，步骤1中用于计算探测器的遮挡比例的公式为：Ratio＝(L*tanα+L*tanβ)/Width其中L为栅格片的高度，Width为探测器宽度，α和β为使用角度仪器测量每个探测器两侧栅格片的倾斜角度。
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