[发明专利]图案处理方法在审
| 申请号： | 201611096581.9 | 申请日： | 2016-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN106855680A | 公开（公告）日： | 2017-06-16 |
| 发明（设计）人： | J·K·朴;李明琦;A·M·科沃克;P·D·休斯塔德 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限责任公司;陶氏环球技术有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/09;G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 陈哲锋,胡嘉倩 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 图案处理方法包含(a)提供半导体衬底，所述半导体衬底在其表面上包含图案化特征；(b)将图案处理组合物涂覆到所述图案化特征上，其中所述图案处理组合物包含聚合物，所述聚合物包含用于与所述图案化特征的表面形成键的表面附着基团，及溶剂，并且其中所述图案处理组合物不含交联剂；(c)用第一冲洗剂自所述衬底去除残余图案处理组合物，留下在所述图案化特征的所述表面上方并且结合到所述图案化特征的所述表面的所述聚合物的涂层；及(d)用与所述第一冲洗剂不同的第二冲洗剂冲洗所述经聚合物涂布的图案化特征，其中所述聚合物在所述第一冲洗剂中的溶解性比在所述第二冲洗剂中大。所述方法尤其适用于制造提供高分辨率图案的半导体装置。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 处理 方法 | ||
【主权项】：
一种图案处理方法，包含：(a)提供半导体衬底，所述半导体衬底在其表面上包含图案化特征；(b)将图案处理组合物涂覆到所述图案化特征上，其中所述图案处理组合物包含聚合物，所述聚合物包含用于与所述图案化特征的表面形成键的表面附着基团，及溶剂，并且其中所述图案处理组合物不含交联剂；(c)用第一冲洗剂自所述衬底去除残余图案处理组合物，留下在所述图案化特征的所述表面上方并且结合到所述图案化特征的所述表面的所述聚合物的涂层；及(d)用与所述第一冲洗剂不同的第二冲洗剂冲洗所述经聚合物涂布的图案化特征，其中所述聚合物在所述第一冲洗剂中的溶解性比在所述第二冲洗剂中大。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罗门哈斯电子材料有限责任公司;陶氏环球技术有限责任公司，未经罗门哈斯电子材料有限责任公司;陶氏环球技术有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201611096581.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：投影装置及其控制方法
- 下一篇：一种射线照片打标机及打标方法
