[发明专利]一种LCD生产的蚀刻工艺

摘要

一种LCD生产的刻蚀工艺，包括以下步骤，1）备料，将14×14的ITO玻璃的表面用清洗剂和DI水清洗干净，并且烘干；2）涂胶，在ITO玻璃的ITO面上均匀的涂一层光刻胶；3）前烘烤，使涂有光刻胶的ITO玻璃在80‑120摄氏的环境下烘烤30‑60秒；4）曝光，在干燥后的胶膜的表面覆盖模板，紫外线通过模板垂直的照射在胶膜上，所述模板上设置有预设的图案；并且在模板的底部设置有一层透明的无色薄膜；本发明中在曝光前设置前烘烤这样就使得光刻胶干燥并且固化，这样在曝光的时候模板稍微接触光刻胶，光刻胶不会粘在模板上，这样模板可以无限的接近光刻胶，最大程度的保证曝光位置的精确。

主权项

一种LCD生产的刻蚀工艺，其特征在于：包括以下步骤，1）备料，将14×14或者14×16的ITO玻璃的表面用清洗剂和DI水清洗干净，并且烘干；2）涂胶，在ITO玻璃的ITO面上均匀的涂一层光刻胶；3）前烘烤，使涂有光刻胶的ITO玻璃在80‑120摄氏的的环境下烘烤30‑60秒，使得涂覆在ITO玻璃上的光刻胶胶膜干燥以增强胶膜与ITO玻璃表面的粘附性和耐磨性；4）曝光，在干燥后的胶膜的表面覆盖模板，紫外线通过模板垂直的照射在胶膜上，所述模板上设置有预设的图案；并且在模板的底部设置有一层透明的无色薄膜；5）显影，将曝光后的ITO玻璃放入显影液中将光刻胶上的感光部分溶解，未感光的部分被留下来，并且通过DI水将ITO玻璃上的显影液冲洗干净；显影后光刻胶膜上显现出与模板上一致的图案；所述显影液氢氧化钠或氢氧化钾溶液；6）坚膜，将显影后的ITO玻璃放入温度为250‑350摄氏的烤箱内，时间为30‑150分钟；7）刻蚀，将坚膜后的ITO玻璃放入酸液中，将ITO玻璃上光刻胶未覆盖的ITO膜去掉，刻胶覆盖的ITO被保护下来；所述酸液的HCL：HNO=1:0.1的混合液。