[发明专利]一种建立用于计算沉积速率的理论模型的方法在审

专利信息
申请号: 201611133632.0 申请日: 2016-12-10
公开(公告)号: CN108228918A 公开(公告)日: 2018-06-29
发明(设计)人: 贺健康;张立超;才玺坤;梅林;时光;武潇野;隋永新;杨怀江 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50;C23C14/54
代理公司: 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 代理人: 赵勍毅
地址: 130033 吉林省长春*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明实施例公开了一种建立用于计算离子束溅射薄膜过程中沉积速率的理论模型的方法,通过实验测试得到待测平面二维离散点的膜厚数据,对数据进行拟合处理获得理论模型中的未知参数,进而可采用所述理论模型计算获得该平面任一点的沉积速率。解决了目前无法采用理论模型计算离子束溅射沉积过程中空间各点的沉积速率的问题。
搜索关键词: 理论模型 沉积 离子束溅射沉积 离子束溅射 薄膜过程 膜厚数据 拟合处理 平面二维 实验测试 未知参数 离散点 中空间
【主权项】:
1.一种建立用于计算沉积速率的理论模型的方法,其特征在于,包括:调整离子束溅射薄膜沉积装置的工艺条件及衬底位置;启动离子束溅射薄膜沉积装置且执行预定时间溅射工作;将镀膜后的衬底划分成复数个小格,利用膜厚仪测量所述复数个小格的中心膜厚而获得复数个膜厚数据;将所述膜厚数据除以所述预定时间而获得沉积速率数据;对所述沉积速率数据进行数据拟合,获得理论模型中的未知参数。
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