[发明专利]一种InSb基高温工作红外探测器材料及其制备方法在审
申请号: | 201611136266.4 | 申请日: | 2016-12-12 |
公开(公告)号: | CN106601870A | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | 刘铭;周朋;邢伟荣;尚林涛;周立庆 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十一研究所 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0352;H01L31/105;B82Y30/00 |
代理公司: | 工业和信息化部电子专利中心11010 | 代理人: | 于金平 |
地址: | 100015*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种InSb基高温工作红外探测器材料及其制备方法,本发明通过利用所设计的nBin或pB’ip结构,结合分子束外延多层膜技术的优点可以制备出InSb高温工作材料,本身工艺的操作性强,而且可以借鉴成熟InSb器件工艺,为后续很快制备出双色器件创造很好的条件。 | ||
搜索关键词: | 一种 insb 高温 工作 红外探测器 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种InSb基高温工作红外探测器材料的制备方法,其特征在于,包括:步骤A:选取势垒层Al组分以及吸收层掺杂浓度;步骤B:将InSb衬底装入外延生长室MBE,经预除气处理以及去除氧化层处理制备外延级InSb衬底;步骤C:在所述外延级InSb衬底上生长InSb缓冲层以及InSb下接触层;步骤D:在所述InSb下接触层上生长InSb吸收层;步骤E:在所述InSb吸收层上生长InAlSb势垒层;步骤F:在所述InAlSb势垒层上生长InSb上接触层。
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H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
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