[发明专利]一种InSb基高温工作红外探测器材料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201611136266.4 申请日: 2016-12-12
公开(公告)号: CN106601870A 公开(公告)日: 2017-04-26
发明(设计)人: 刘铭;周朋;邢伟荣;尚林涛;周立庆 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十一研究所
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0352;H01L31/105;B82Y30/00
代理公司: 工业和信息化部电子专利中心11010 代理人: 于金平
地址: 100015*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种InSb基高温工作红外探测器材料及其制备方法,本发明通过利用所设计的nBin或pB’ip结构,结合分子束外延多层膜技术的优点可以制备出InSb高温工作材料,本身工艺的操作性强,而且可以借鉴成熟InSb器件工艺,为后续很快制备出双色器件创造很好的条件。
搜索关键词: 一种 insb 高温 工作 红外探测器 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
一种InSb基高温工作红外探测器材料的制备方法,其特征在于,包括:步骤A:选取势垒层Al组分以及吸收层掺杂浓度;步骤B:将InSb衬底装入外延生长室MBE,经预除气处理以及去除氧化层处理制备外延级InSb衬底;步骤C:在所述外延级InSb衬底上生长InSb缓冲层以及InSb下接触层;步骤D:在所述InSb下接触层上生长InSb吸收层;步骤E:在所述InSb吸收层上生长InAlSb势垒层;步骤F:在所述InAlSb势垒层上生长InSb上接触层。
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