[发明专利]一种光通过散射介质聚焦的单元裂解调制方法有效

专利信息
申请号: 201611138000.3 申请日: 2016-12-12
公开(公告)号: CN106725319B 公开(公告)日: 2019-09-10
发明(设计)人: 方龙杰;张诚;庞霖 申请(专利权)人: 四川大学
主分类号: A61B5/00 分类号: A61B5/00
代理公司: 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 代理人: 赵荣之
地址: 610065 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种光通过散射介质聚焦的单元裂解调制方法,涉及生物成像领域。本发明技术要点:包括最佳相位寻找的步骤、四元裂解方法调制步骤。其中,最佳相位寻找的步骤为在空间光调制器上进行0~2π的相位变化,对入射平面波进行相位调制,用CCD接收相应的散斑图,计算聚焦处的光强大小,并进行比较,保存最大光强对应的相位值;四元裂解方法调制步骤包括:每一个单元寻找其使得输出聚焦处强度最大的相位(最优相位),然后将这些单元顺序等分成四份,每个小单元在继承之前的优化相位的同时继续寻找更优的相位分布,依此类推,可将单元细分、优化到更小的单元,甚至空间光调制器的像素。
搜索关键词: 一种 通过 散射 介质 聚焦 单元 裂解 调制 方法
【主权项】:
1.一种光通过散射介质聚焦的调制方法,其特征在于:包括最佳相位寻找的步骤和四元裂解方法调制步骤;其中,最佳相位寻找的步骤为在空间光调制器上进行0~2π的相位变化,对入射平面波进行相位调制,用CCD接收相应的散斑图,计算聚焦处的光强大小,并进行比较,保存最大光强对应的相位值;四元裂解方法调制步骤包括:把空间光调制器的整个区域分为四个独立单元,对每个独立单元寻找其使得输出聚焦处强度最大的相位,即最优相位,然后将每个独立单元顺序等分成四份小单元,每个小单元在继承之前的优化相位的同时继续寻找更优的相位分布,依此类推,将小单元细分、优化到更小的单元。
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