[发明专利]一种测试结构及其布设方法有效
申请号: | 201611147623.7 | 申请日: | 2016-12-13 |
公开(公告)号: | CN106601645B | 公开(公告)日: | 2020-05-12 |
发明(设计)人: | 赵毅;瞿奇;陈玉立;彭飞;梁卉荣 | 申请(专利权)人: | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 俞涤炯 |
地址: | 430205 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及半导体测试技术,尤其涉及一种测试结构及其布设方法,设置n个焊盘并于每个焊盘底部设置一个下部电路;采用第一组连线将所有NMOS晶体管的源极并联至第一焊盘上;采用第二组连线将所有NMOS晶体管的衬底并联至第二焊盘上;采用第三组连线将所有NMOS晶体管的栅极和漏极分别连接至n‑2个第三焊盘上,使得在第一焊盘和第二焊盘测试通电的情况下,每2个第三焊盘测试通电时仅得到单个NMOS晶体管的测试数据并且每个NMOS晶体管的测试数据均能通过n‑2个第三焊盘两两组合测试得到,通过焊盘底部的下部结构分析处于不同焊盘底部的不同方位的晶体管的漏极电流变化情况,最终定位到探针卡上扎针位置出现偏移的针脚以及该针脚的偏移方向。 | ||
搜索关键词: | 一种 测试 结构 及其 布设 方法 | ||
【主权项】:
一种测试结构,应用于晶片允收测试过程,其特征在于,包括:n个焊盘;下部电路;所述焊盘包括一第一焊盘,一第二焊盘和多个第三焊盘;每个所述下部电路包括数量相同且按方位分布的多个NMOS晶体管;第一组连线,将所有所述NMOS晶体管的源极并联至所述第一焊盘上;第二组连线,将所有所述NMOS晶体管的衬底并联至所述第二焊盘上;第三组连线,将所有所述NMOS晶体管的栅极和漏极分别连接至n‑2个所述第三焊盘上,使得在所述第一焊盘和所述第二焊盘测试通电的情况下,每2个所述第三焊盘测试通电时仅得到单个所述NMOS晶体管的测试数据并且每个所述NMOS晶体管的测试数据均能通过n‑2个所述第三焊盘两两组合测试得到。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉新芯集成电路制造有限公司,未经武汉新芯集成电路制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201611147623.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造