[发明专利]磁记录介质及磁记录再生装置有效

专利信息
申请号: 201611161241.X 申请日: 2016-12-15
公开(公告)号: CN107068168B 公开(公告)日: 2019-05-07
发明(设计)人: 井上健;长谷川浩太 申请(专利权)人: 昭和电工株式会社
主分类号: G11B5/667 分类号: G11B5/667;G11B5/851
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种磁记录介质,其非磁性基板上至少设置了软磁性底层、配向控制层、垂直磁性层及保护层,垂直磁性层从基板侧开始依次包括第1至第4磁性层,第1至第4磁性层为粒状结构磁性层,构成第1至第4磁性层的磁性颗粒为连续柱状晶,第1磁性层和第2磁性层之间及第2磁性层和第3磁性层之间分别具有交换结合控制层,第3磁性层与第4磁性层接触,第1至第4磁性层为强磁结合,在第1至第4磁性层的磁各向异性常数为Kui、饱和磁化强度为Msi及膜厚为ti时,满足Kui>Kui+1(i=1,2)、Msi·ti>Msi+1·ti+1(i=1,2)、Kui<Kui+1(i=3)及Msi·ti<Msi+1·ti+1(i=3)的关系。
搜索关键词: 磁性层 垂直磁性层 磁记录介质 控制层 磁各向异性常数 磁记录再生装置 非磁性基板 软磁性底层 饱和磁化 磁性颗粒 粒状结构 保护层 连续柱 基板 膜厚 配向 强磁 交换
【主权项】:
1.一种磁记录介质,在该磁记录介质的非磁性基板上至少设置了软磁性底层、对正上面的层的配向性进行控制的配向控制层、易磁化轴相对于所述非磁性基板进行了垂直配向的垂直磁性层、及保护层,其中,所述垂直磁性层从所述非磁性基板侧开始依次包括第1磁性层、第2磁性层、第3磁性层、及第4磁性层,所述第1磁性层至所述第4磁性层为粒状结构磁性层,构成所述第1磁性层至所述第4磁性层的磁性颗粒为连续柱状晶,所述第1磁性层和所述第2磁性层之间及所述第2磁性层和所述第3磁性层之间分别具有交换结合控制层,所述第3磁性层与所述第4磁性层接触,所述第1磁性层至所述第4磁性层为强磁结合,在所述第1磁性层至所述第4磁性层的磁各向异性常数为Kui、饱和磁化强度为Msi、及膜厚为ti时,满足如下关系,即:Kui>Kui+1,这里,i=1,2;Msi·ti>Msi+1·ti+1,这里,i=1,2;Kui<Kui+1,这里,i=3;及Msi·ti<Msi+1·ti+1,这里,i=3。
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