[发明专利]一种等离子处理器、刻蚀均匀性调节系统及方法

摘要

本发明公开了一种刻蚀均匀性调节系统，包含若干反馈调节装置以及一连接反馈调节装置的计算控制单元；每个反馈调节装置分别包含：电流监视器，安装在等离子体反应腔的限制环与接地环之间，并连接所述的计算控制单元；主动升降机，安装在等离子体反应腔的限制环与接地环之间并位于上述电流监视器的对应位置；计算控制单元通过若干电流监视器获取限制环与接地环之间各区域的电流分布大小控制主动升降机调节限制环与接地环之间的间隙。其优点是：通过主动升降机和电流监视器的共同作用，实现对等离子体分均匀性的实时主动反馈控制。

主权项

1.一种刻蚀均匀性调节系统，连接一等离子处理器，该等离子处理器包含一等离体子反应腔，该等离子体反应腔内具有通过一用于放置晶圆的基座，基座与反应腔侧壁之间具有限制环（1）与接地环（2），其中限制环（1）上具有多个气体通道用于将等离子体限制在限制环上方，接地环由导体制成并且电接地，其特征在于，该刻蚀均匀性调节系统包含若干反馈调节装置以及一连接上述反馈调节装置的计算控制单元（3）；其中，每个所述的反馈调节装置分别包含：电流监视器（41），安装在等离子体反应腔的限制环（1）与接地环（2）之间，并连接所述的计算控制单元（3），用于对流过其所在区域的限制环（1）与接地环（2）之间的电流进行监视；主动升降机（42），安装在等离子体反应腔的限制环（1）与接地环（2）之间并位于上述电流监视器（41）的对应位置，用于对上述电流监视器所在区域的限制环（1）与接地环（2）之间的间隙进行调整；其中，计算控制单元（3）通过若干电流监视器（41）根据获取得到的限制环（1）与接地环（2）之间各区域的电流分布大小控制主动升降机（42）调节限制环（1）与接地环（2）之间的间隙。