[发明专利]一种GO-CdS-ZnO-多孔硅复合光催化剂的制备方法有效
申请号: | 201611167823.9 | 申请日: | 2016-12-16 |
公开(公告)号: | CN106582717B | 公开(公告)日: | 2019-04-12 |
发明(设计)人: | 李绍元;冯琪;马文会;邹宇新;何霄;于洁;万小涵;吕国强;雷云;谢克强;伍继君;魏奎先;杨斌;戴永年 | 申请(专利权)人: | 昆明理工大学 |
主分类号: | B01J27/04 | 分类号: | B01J27/04;C02F1/28;C02F1/30;C02F101/30 |
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摘要: | 本发明公开一种GO‑CdS‑ZnO‑多孔硅复合光催化剂的制备方法,包括:①采用金属纳米颗粒辅助刻蚀法制备多孔硅;②制备氧化石墨烯分散液;③将多孔硅加入ZnO前驱体溶液搅拌、超声分散,并与含PVP为分散剂、乌洛托品为络合剂的硝酸锌溶液反应,获得ZnO‑多孔硅材料;④以硫酸镉为镉源、硫脲为硫源,加入氧化石墨烯分散液和ZnO‑多孔硅,在高压釜中反应,反应完成后冲洗、干燥即可获得GO‑CdS‑ZnO‑多孔硅复合光催化剂。 | ||
搜索关键词: | 一种 go cds zno 多孔 复合 光催化剂 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种GO‑CdS‑ZnO‑多孔硅复合光催化剂的制备方法,包括以下步骤:(1)多孔硅制备:①硅料的预处理:将硅料进行破碎和研磨至颗粒粒径为1‑500μm,用蒸馏水清洗,然后用1‑40wt%的HF浸泡清洗后的硅粉1‑60min,烘干后备用;②硅粉的刻蚀:采用金属纳米颗粒辅助刻蚀法得到含有纳米级孔道的多孔硅颗粒;③金属纳米颗粒的去除:将②中得到的多孔硅颗粒放置于硝酸溶液中浸泡1‑200min;④多孔硅颗粒的后处理:过滤获得多孔硅颗粒并用大量的去离子水冲洗,直到洗液pH显示为中性,过滤、烘干备用;(2)氧化石墨烯分散液制备:将氧化石墨分散到去离子水中,通过超声剥离形成氧化石墨烯片,离心分离得到均匀分散的氧化石墨烯分散液备用;(3)ZnO‑多孔硅制备:①制备ZnO前驱体溶液:将醋酸锌和氢氧化钠溶于乙醇中,并加入步骤(1)制得的多孔硅,在25‑90℃搅拌1‑300min,然后在10‑80℃超声分散1‑300min后干燥,得到含ZnO晶种的多孔硅;②配制0.001‑3M硝酸锌溶液,将含0.001‑3M PVP、0.001‑3M乌洛托品的溶液加入硝酸锌溶液中,并将含ZnO晶种的多孔硅加入其中,使混合物在高压釜中在90‑200℃反应0.5‑3h;反应完成将产物过滤、洗涤、烘干备用;(4)GO‑CdS‑ZnO‑多孔硅复合光催化剂制备:将浓度为0.01‑2M的硫酸镉溶液与浓度为0.001‑0.2M的硫脲溶液混合均匀,加入步骤(2)制得的氧化石墨烯分散液和步骤(3)制得的ZnO‑多孔硅,加碱溶液调节反应体系的pH值为7.5‑14,置于高压釜中在60‑100℃反应1‑10h;反应完成后将产物冲洗、干燥即可。
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