[发明专利]检测设备、曝光设备和制造设备的方法有效

专利信息
申请号: 201611180237.8 申请日: 2016-12-20
公开(公告)号: CN106919005B 公开(公告)日: 2020-04-07
发明(设计)人: 前田浩平 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 宋岩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 公开了检测设备、曝光设备和制造设备的方法。该检测设备具有从相对于物体的表面的法线的倾斜方向投影光的投影系统22以及接收反射光20光接收系统23,并且该检测设备基于光接收系统23所获得的数据来检测表面的位置,反射光20包括前/背反射光,光接收系统23包括将反射光分离成第一/第二偏振光的偏振光分离单元15,以及用于检测第一/第二偏振光的检测单元16、17,投影系统22或光接收系统23被配置成使得由检测单元获得的背反射光的第一/第二偏振光相等,并且包括用于基于示出出第一/第二偏振光的数据之间的差分数据来计算位置的计算单元。
搜索关键词: 检测 设备 曝光 制造 方法
【主权项】:
一种检测设备,其特征在于,具有从相对于待检测物体的待检测表面的法线的倾斜方向投影检测光的投影系统以及接收由待检测物体反射的反射光的光接收系统,并且该检测设备基于由光接收系统获得的数据来检测待检测表面的位置,反射光包括在待检测表面上反射的前表面反射光以及透射通过待检测表面并且在待检测物体的背面上反射的背面反射光,光接收系统包括将反射光分离成第一偏振光分量和第二偏振光分量的偏振光分离单元、以及检测第一偏振光分量和第二偏振光分量的检测单元,投影系统或光接收系统被配置成使得由检测单元获得的背面反射光的第一偏振光分量和背面反射光的第二偏振光分量相等,并且投影系统或光接收系统包括基于由检测单元获得的示出第一偏振光分量的数据与示出第二偏振光分量的数据之间的差分数据来计算所述位置的计算单元。
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