[发明专利]黑膜的制作方法、黑膜以及发光器件

摘要

本申请提供了一种黑膜的制作方法、黑膜以及发光器件。该制作方法包括：步骤S1，采用黑色光刻胶制作第一个黑膜层；步骤S2，在第一个黑膜层的一个表面上依次制作第二个至第N个黑膜层，且使得第一个黑膜层的覆盖区域与设置在第一个黑膜层上的各个黑膜层的覆盖区域一一对应，第一个黑膜层与设置在第一个黑膜层上的N‑1个黑膜层形成黑膜，且N≥2；步骤S3，采用等离子体刻蚀法对黑膜的表面形貌进行处理，使得黑膜的表面平整。该制作方法能够制作得到较厚的黑膜，且黑膜的表面形貌较好，表面较平整。

主权项

1.一种黑膜的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：步骤S1，采用黑色光刻胶制作第一个黑膜层；步骤S2，在所述第一个黑膜层的一个表面上依次制作第二个至第N个黑膜层，且使得所述第一个黑膜层的覆盖区域与设置在所述第一个黑膜层上的各个黑膜层的覆盖区域一一对应，所述第一个黑膜层与设置在所述第一个黑膜层上的N‑1个黑膜层形成黑膜，且N≥2，当N＝2时，在所述第一个黑膜层的一个表面上仅制作第二个黑膜层；以及步骤S3，采用等离子体刻蚀法对所述黑膜的表面形貌进行处理，使得所述黑膜的表面平整，所述步骤S3包括：步骤S31，采用等离子体刻蚀法去除所述黑膜表面的凸起；以及步骤S32，采用等离子体刻蚀法去除所述黑膜表面的凹陷，所述步骤S32中，采用第二气体进行所述等离子体刻蚀法，所述第二气体包括第二轰击气体、第二腐蚀气体和分散气体。