[发明专利]频率可重构偶极子天线的Ge基等离子pin二极管的制备工艺在审

专利信息
申请号: 201611184783.9 申请日: 2016-12-20
公开(公告)号: CN106785335A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 尹晓雪;张亮 申请(专利权)人: 西安科锐盛创新科技有限公司
主分类号: H01Q1/22 分类号: H01Q1/22;H01Q1/36;H01Q1/50;H01Q5/321;H01L21/329;H01L29/868
代理公司: 西安智萃知识产权代理有限公司61221 代理人: 刘长春
地址: 710065 陕西省西安市高新区高新路86号*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明提供一种频率可重构偶极子天线的Ge基等离子pin二极管的制备工艺,所述Ge基等离子pin二极管用于制造所述频率可重构天线,该Ge基等离子pin二极管的制备方法包括步骤选取GeOI衬底,在GeOI衬底内形成隔离区;刻蚀GeOI衬底形成P型沟槽和N型沟槽;在P型沟槽和N型沟槽内采用离子注入形成P型有源区和N型有源区;在GeOI衬底上形成引线,完成Ge基等离子pin二极管的制备。本发明提供的可重构天线具有重量轻、结构简单、成本低、频率可快速跳变的特点。
搜索关键词: 频率 可重构 偶极子 天线 ge 等离子 pin 二极管 制备 工艺
【主权项】:
一种频率可重构天线的Ge基等离子pin二极管的制备工艺,其特征在于,所述Ge基等离子pin二极管用于制造所述频率可重构天线,所述Ge基等离子pin二极管的制备方法包括步骤:选取GeOI衬底,在所述GeOI衬底内形成隔离区;刻蚀所述GeOI衬底形成P型沟槽和N型沟槽;在所述P型沟槽和所述N型沟槽内采用离子注入形成P型有源区和N型有源区;在所述GeOI衬底上形成引线,完成所述Ge基等离子pin二极管的制备;所述频率可重构天线包括:Ge基GeOI半导体基片(1);固定在所述Ge基GeOI半导体基片(1)上的第一天线臂(2)、第二天线臂(3)、同轴馈线(4)、第一直流偏置线(5)、第二直流偏置线(6)、第三直流偏置线(7)、第四直流偏置线(8)、第五直流偏置线(9)、第六直流偏置线(10)、第七直流偏置线(11)、第八直流偏置线(12);所述第一天线臂(2)和所述第二天线臂(3)分别设置于所述同轴馈线(4)的两侧且包括多个Ge基等离子pin二极管串;所述第一直流偏置线(5),所述第二直流偏置线(6),所述第三直流偏置线(7),所述第四直流偏置线(8),所述第五直流偏置线(9),所述第六直流偏置线(10),所述第七直流偏置线(11)及所述第八直流偏置线(12)采用化学气相淀积的方法固定于所述Ge基GeOI半导体基片(1)上,其材料为铜、铝或经过掺杂的多晶硅中的任意一种。
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