[发明专利]一种无铝波导层的红光半导体激光器结构有效

专利信息
申请号: 201611192088.7 申请日: 2016-12-21
公开(公告)号: CN108233179B 公开(公告)日: 2020-02-14
发明(设计)人: 朱振;张新;徐现刚 申请(专利权)人: 山东华光光电子股份有限公司
主分类号: H01S5/323 分类号: H01S5/323;H01S5/34
代理公司: 37219 济南金迪知识产权代理有限公司 代理人: 杨树云
地址: 250101 山东省济*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明涉及一种无铝波导层的红光半导体激光器结构,从下至上依次包括衬底、下限制层、下波导层、量子阱层、上波导层、上限制层和欧姆接触层;所述下波导层、量子阱层、上波导层均为镓铟磷材料。本发明波导层使用无铝的镓铟磷材料,实现有源区全无铝,对生长环境尤其是氧杂质浓度的要求不再那么苛刻。同时腔面解理时由于有源区无铝,抗氧化能力增加,腔面缺陷有效减少。此设计不仅减少了材料内部的氧杂质缺陷,还降低了腔面缺陷的形成,可以减少光吸收,提高腔面的抗烧毁能力及半导体激光器的寿命。
搜索关键词: 波导层 腔面 红光半导体激光器 量子阱层 上波导层 下波导层 氧杂质 镓铟磷 源区 半导体激光器 抗氧化能力 欧姆接触层 材料内部 上限制层 生长环境 下限制层 有效减少 光吸收 衬底 解理 烧毁
【主权项】:
1.一种无铝波导层的红光半导体激光器结构,其特征在于,从下至上依次包括衬底、下限制层、下波导层、量子阱层、上波导层、上限制层和欧姆接触层;所述下波导层、量子阱层、上波导层均为镓铟磷材料;/n所述量子阱层为带隙为1.84eV的有序镓铟磷材料,所述下波导层、上波导层均为带隙为1.91eV的无序镓铟磷材料;所述有序镓铟磷材料是指在600-640℃温度范围内生长的镓铟磷材料;所述无序镓铟磷材料是指在660-700℃温度范围内生长的镓铟磷材料。/n
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