[发明专利]真空电弧离子镀膜方法有效

专利信息
申请号: 201611201531.2 申请日: 2016-12-22
公开(公告)号: CN106591785B 公开(公告)日: 2019-03-01
发明(设计)人: 苗小锋;汪云程;袁雪花;张志远 申请(专利权)人: 中国南方航空工业(集团)有限公司
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32;C23C14/14;C23C14/54
代理公司: 长沙智嵘专利代理事务所(普通合伙) 43211 代理人: 胡亮
地址: 412002*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种真空电弧离子镀膜方法,包括以下步骤:待镀件用金相砂纸打磨后清洗;将待镀件安装在镀膜室内的转盘上,镀膜室抽真空,并对待镀件加热,加热完成后通入氩气;对待镀件进行离子轰击清理;对待镀件施加负偏压并不断地降低负偏压值进行镀铬,直至负偏压为80V~120V后,每镀铬60min~180min,提高负偏压至350V~450V对待镀件进行离子轰击。该真空电弧离子镀膜方法,不用酸碱盐等溶液、没有三废排放、对环境无污染、适用范围广;通过对镀膜时工艺参数的设定,使膜层与零件基体材料结合良好,提高了零件的耐磨和耐腐蚀性能;并使膜层厚度均匀,膜层之间的结合力大大提高。
搜索关键词: 负偏压 镀件 离子镀膜 真空电弧 膜层 离子轰击 待镀件 镀铬 镀膜 加热 镀膜室抽真空 环境无污染 耐腐蚀性能 氩气 材料结合 厚度均匀 金相砂纸 零件基体 三废排放 结合力 酸碱盐 耐磨 转盘 打磨 清洗 施加 室内
【主权项】:
1.一种真空电弧离子镀膜方法,其特征在于,用于对结构复杂的内机匣焊接组件进行真空电弧离子镀铬处理,包括以下步骤:(1)预处理:待镀件用金相砂纸打磨后清洗;(2)装炉:将待镀件安装在镀膜室内的转盘上,镀膜室抽真空,并对待镀件加热,加热完成后通入氩气;(3)离子轰击:对待镀件施加轰击负偏压进行离子轰击;(4)镀膜:对待镀件施加负偏压180V~250V,调节铬靶弧源的工作电流为80A~110A,镀铬10min~30min;降低负偏压至120V~180V,镀铬10min~30min;继续降低负偏压至80V~120V,镀铬180min~420min,其中,当负偏压降低至80V~120V后,每镀铬60min~180min,提高负偏压至350V~450V对待镀件进行离子轰击;(5)出炉:将待镀件从镀膜室内取出。
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