[发明专利]表面形貌的量测方法有效
| 申请号： | 201611204915.X | 申请日： | 2016-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN108240800B | 公开（公告）日： | 2020-03-10 |
| 发明（设计）人： | 张巍耀;杨蘭昇;翁義龙 | 申请（专利权）人： | 致茂电子(苏州)有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/24 | 分类号： | G01B11/24 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 215011 江苏省苏州市苏州高*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种表面形貌的量测方法，包含：(a)决定多个投影像素与多个影像感测像素之间于待测面上的对应关系。(b)利用投影像素提供校正光至待测面。(c)决定至少一投影像素于第一曝光时间的亮度调整幅度。投影像素利用亮度调整幅度能够让影像感测像素于待测面上感测到亮度实质均匀的校正光。(d)提供具亮度调整幅度的第一结构光至待测面以测量表面形貌。第一结构光是由投影像素所产生，且投影像素产生至少二幅不同的投影图案以叠加成第一结构光。本揭露的表面形貌的量测方法可防止影像感测像素处于饱和状态，同时提供足够调制解析度的第一结构光，以提高形貌量测的解析度与准确度。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 形貌 方法 | ||
【主权项】：
1.一种表面形貌的量测方法，其特征在于，包含：(a)决定多个投影像素与多个影像感测像素之间于一待测面上的对应关系；(b)利用所述多个投影像素提供一校正光至该待测面；(c)决定至少一的所述投影像素于一第一曝光时间的亮度调整幅度，其中所述投影像素利用该亮度调整幅度能够让所述影像感测像素于该待测面上感测到亮度实质均匀的校正光；以及(d)提供具该亮度调整幅度的一第一结构光至该待测面以测量表面形貌，其中该第一结构光是由所述多个投影像素所产生，且所述多个投影像素产生至少二幅不同的投影图案以叠加成该第一结构光。
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