[发明专利]蒸镀设备与利用此设备的蒸镀方法有效
| 申请号： | 201611207948.X | 申请日： | 2016-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN108004507B | 公开（公告）日： | 2020-05-22 |
| 发明（设计）人： | 黄智勇;林士钦;王庆钧 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种蒸镀设备与利用此设备的一种蒸镀方法，包括设置有一蒸镀腔室，一蒸镀源，一承载装置以及一流体扰动装置。蒸镀腔室具有一蒸镀空间，蒸镀源设置于蒸镀空间中的下方，蒸镀源适于容纳蒸镀源材料。承载装置以一参考轴为中心、可旋转地设置于蒸镀空间中的上方，且与蒸镀源相对；承载装置适于承载待镀物并使待镀物位于蒸镀源与承载装置之间。流体扰动装置适于在蒸镀空间中，朝向承载装置注入一经扰动后的流体。 | ||
| 搜索关键词： | 设备 利用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种蒸镀设备，包括：蒸镀腔室，具有蒸镀空间；蒸镀源，设置于该蒸镀空间中的下方，该蒸镀源适于容纳蒸镀源材料；承载装置，以参考轴为中心、可旋转地设置于该蒸镀空间中的上方，且与该蒸镀源相对，该承载装置适于承载待镀物并使该待镀物位于该蒸镀源与该承载装置之间；以及流体扰动装置，适于在该蒸镀空间中，朝向该承载装置注入经扰动后的流体；其中，该流体扰动装置包括多个喷头，该多个喷头以该参考轴为中心呈对称排列设置，且该多个喷头各设置为朝向注入方向注入该经扰动后的流体，该注入方向与该参考轴相交一角度，使该经扰动后的流体朝向该承载装置行进。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于财团法人工业技术研究院，未经财团法人工业技术研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201611207948.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
