[发明专利]一种直拉法生产单晶硅过程中对挂料的处理方法在审
| 申请号： | 201611213827.6 | 申请日： | 2016-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN108239785A | 公开（公告）日： | 2018-07-03 |
| 发明（设计）人： | 王雅楠;崔彬;刘卓;姜舰;韩秋雨;翟顺元 | 申请（专利权）人： | 有研半导体材料有限公司 |
| 主分类号： | C30B15/00 | 分类号： | C30B15/00;C30B29/06 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 刘秀青;熊国裕 |
| 地址： | 101300 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种直拉法生产单晶硅过程中对挂料的处理方法。该方法采用反射工具对挂料进行处理，包括以下步骤：(1)当发生挂料时将籽晶夹头部分拆下，换上反射工具。(2)将反射工具的反射面对准挂料位置，反射的热量集中到挂料位置，通过观察窗观察挂料位置的熔化情况，使晶转、埚转同步，使热量集中的部位相对固定；(3)待多晶块料掉落到熔体中，再进行隔离取出反射工具，换上籽晶夹头进行生产。本发明可针对不同的热场尺寸，在不增加太多功率的前提下，使挂料区域局部升温，避免了由于温度过高出现的石英坩埚软化、漏硅的情况。本发明的使用大大降低了烤料时间，降低了烤料漏硅的几率，缩短了运行时间，有很大的市场价值。 | ||
| 搜索关键词： | 挂料 反射 单晶硅 热量集中 直拉法 熔化 多晶块料 石英坩埚 温度过高 籽晶夹头 多功率 反射面 观察窗 籽晶夹 掉落 分拆 热场 熔体 埚转 软化 生产 对准 取出 隔离 观察 | ||
【主权项】：
1.一种直拉法生产单晶硅过程中对挂料的处理方法，采用反射工具对挂料进行处理，包括以下步骤：(1)当发生挂料时将籽晶夹头部分拆下，换上反射工具。(2)将反射工具的反射面对准挂料位置，反射的热量集中到挂料位置，通过观察窗观察挂料位置的熔化情况，使晶转、埚转同步，使热量集中的部位相对固定；(3)待多晶块料掉落到熔体中，再进行隔离取出反射工具，换上籽晶夹头进行生产。
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