[发明专利]光刻胶工艺工具及其清洗用的杯状清洗盘和方法有效
| 申请号： | 201611222845.0 | 申请日： | 2016-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN106997154B | 公开（公告）日： | 2021-08-03 |
| 发明（设计）人： | 邓华光;林裕翔;方天正 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 提供了一种用于清洗光刻胶工艺工具的杯状清洗盘。上托板布置在下托板上方以限定上托板和下托板之间的空腔。下托板包括与空腔流体连通且沿着下托板的周边布置的周边开口。多个垫片布置在上托板和下托板之间以将上托板和下托板间隔开且限定上托板和下托板之间的狭缝。狭缝与空腔流体连通。还提供了一种使用杯状清洗盘清洗光刻胶工艺工具的方法。本发明的实施例还涉及光刻胶工艺工具。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 工艺 工具 及其 清洗 方法 | ||
【主权项】：
一种用于清洗光刻胶工艺工具的杯状清洗盘，所述杯状清洗盘包括：上托板，布置在下托板上方以限定所述上托板和所述下托板之间的空腔，其中，所述下托板包括与所述空腔流体连通且沿着所述下托板的周边布置的周边开口；以及多个垫片，布置在所述上托板和所述下托板之间以将所述上托板和所述下托板间隔开且限定所述上托板和所述下托板之间的狭缝，其中，所述狭缝与所述空腔流体连通。
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