[发明专利]具有改性表面的溅射装置部件及其制造方法在审
申请号: | 201611224438.3 | 申请日: | 2016-09-29 |
公开(公告)号: | CN107043911A | 公开(公告)日: | 2017-08-15 |
发明(设计)人: | J·金;P·K·昂德伍德;S·D·斯特罗瑟斯;M·D·佩顿;S·R·塞尔斯 | 申请(专利权)人: | 霍尼韦尔国际公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 李晨,谭祐祥 |
地址: | 美国新*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种在气相沉积设备中使用的溅射靶组件,该溅射靶组件包括溅射表面;侧壁,与该溅射表面呈一角度从该溅射表面延伸;颗粒阱,该颗粒阱由沿侧壁定位的粗糙度形成并从该溅射表面径向延伸,其中颗粒阱的粗糙度具有宏观结构和微观结构。 | ||
搜索关键词: | 具有 改性 表面 溅射 装置 部件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种在气相沉积设备中使用的溅射靶组件,该溅射靶组件包括:溅射表面;侧壁,该侧壁形成在第二表面上,与该溅射表面呈一角度从该溅射表面延伸;以及颗粒阱,该颗粒阱由第二表面上粗糙度形成,该颗粒阱从溅射表面径向延伸;其中,溅射靶组件在从溅射靶表面的小于80埃的深度具有小于40%的碳原子浓度。
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