[发明专利]石英晶片腐蚀装置有效
| 申请号： | 201611232529.1 | 申请日： | 2016-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN106746699B | 公开（公告）日： | 2019-02-22 |
| 发明（设计）人： | 侯明永 | 申请（专利权）人： | 重庆晶宇光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙) 50217 | 代理人： | 陈家辉 |
| 地址： | 402160 重*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本专利申请涉及晶片加工领域，公开了一种石英晶片腐蚀装置，包括凸轮和与凸轮同轴连接的转轴，凸轮内部在其大端一侧设有第一空腔和第二空腔，第一空腔内装有腐蚀液，第二空腔内装有清洁液；所述第一空腔的出口处设置有第一挡片，第二空腔的出口处第二挡片述凸轮的侧壁分别上设置两条凹槽，凹槽内设置有滑臂，所述滑臂的侧壁与挡片的侧壁固定连接，滑臂的另一侧壁通过压簧与所述凹槽侧壁连接，还包括第一凸块、第二凸块，第一凸块和第二凸块分别位于所述凸轮的两侧，所述凸轮的下方设置有传送装置，所述转轴下端连接有第一齿轮，所述第一齿轮连接有动力装置。本专利既能控制晶片的腐蚀程度，还能边腐蚀边清洗，省时省力。 | ||
| 搜索关键词： | 凸块 第二空腔 第一空腔 侧壁 挡片 滑臂 腐蚀装置 石英晶片 转轴 大端 腐蚀 凹槽侧壁 齿轮连接 传送装置 动力装置 晶片加工 控制晶片 同轴连接 腐蚀液 清洁液 齿轮 省时 下端 压簧 省力 清洗 申请 | ||
【主权项】：
1.一种石英晶片腐蚀装置，包括凸轮机构，凸轮机构包括凸轮和与凸轮下端面偏心连接的转轴，其特征在于，所述凸轮内部靠近大端一侧设置有第一空腔和第二空腔，所述第一空腔和第二空腔在垂直方向上从上至下依次排列，所述第一空腔内装有腐蚀液，所述第二空腔内装有清洁液；所述第一空腔的出口处设置有遮挡第一空腔的第一挡片，第二空腔的出口处设置有遮挡第二空腔的第二挡片，所述凸轮的侧壁上分别设置有供所述第一挡片和第二挡片滑动的两条凹槽，所述第一挡片和第二挡片与相应的凹槽之间设置有滑臂，所述滑臂的侧壁与所述挡片的侧壁固定连接，所述滑臂嵌入所述凹槽，所述滑臂的另一侧壁通过压簧与所述凹槽侧壁连接，在所述凸轮的运动轨迹上设置有可与所述第一挡片相抵的第一凸块以及可与所述第二挡片相抵的第二凸块，所述第一凸块和第二凸块分别位于所述凸轮的两侧，所述凸轮的下方设置有运送晶片的传送装置，所述转轴下端连接有第一齿轮，所述第一齿轮连接有动力装置。
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