[发明专利]制备钕铁硼磁体的低温烧结方法在审
申请号: | 201611236352.2 | 申请日: | 2016-12-28 |
公开(公告)号: | CN106623916A | 公开(公告)日: | 2017-05-10 |
发明(设计)人: | 张英伟 | 申请(专利权)人: | 京磁新材料有限公司 |
主分类号: | B22F3/10 | 分类号: | B22F3/10;H01F41/02 |
代理公司: | 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙)11369 | 代理人: | 史霞 |
地址: | 300000 天津市*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明公开了一种制备钕铁硼磁体的低温烧结方法,其包括在钕铁硼生坯加热脱气完成后,进行烧结之前,将钕铁硼生坯温度升至高出烧结目标温度5‑15℃,并保温1‑2h。本发明所述制备钕铁硼磁体的低温烧结方法,具有操作简单,磁体更加致密,磁体综合性能好,能耗低的优点,且易于推广。 | ||
搜索关键词: | 制备 钕铁硼 磁体 低温 烧结 方法 | ||
【主权项】:
一种制备钕铁硼磁体的低温烧结方法,其特征在于,包括:在钕铁硼生坯加热脱气完成后,进行烧结之前,将钕铁硼生坯温度升至高出烧结目标温度5‑15℃,并保温1‑2h。
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