[发明专利]氮化镓基功率二极管及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201611258251.5 申请日: 2016-12-30
公开(公告)号: CN106601825B 公开(公告)日: 2019-12-03
发明(设计)人: 康玄武;刘新宇;黄森;王鑫华;魏珂 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L21/02;H01L21/329
代理公司: 11667 北京兰亭信通知识产权代理有限公司 代理人: 赵永刚<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种氮化镓基功率二极管及其制作方法,在重掺杂N型氮化镓衬底上方生长第一轻掺杂N型氮化镓外延层;在第一轻掺杂N型氮化镓外延层上方生长P型氮化镓外延层;对P型氮化镓外延层和第一轻掺杂N型氮化镓外延层进行刻蚀,以形成贯穿于P型氮化镓外延层或贯穿于P型氮化镓外延层并伸入第一轻掺杂N型氮化镓外延层的刻蚀图形;在含有刻蚀图形的P型氮化镓外延层上方生长第二轻掺杂N型氮化镓外延层;制作阳极和阴极,以形成氮化镓基功率二极管。本发明采用外延法替代离子注入法来形成氮化镓基功率二极管中的P型掺杂结构,杂质有效激活率高,避免了依靠退火技术来提高离子注入中杂质有效激活率的问题,降低了工艺实现的难度。
搜索关键词: 氮化 功率 二极管 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种氮化镓基功率二极管的制作方法,其特征在于,包括:/n在重掺杂N型氮化镓衬底上方生长第一轻掺杂N型氮化镓外延层;/n在所述第一轻掺杂N型氮化镓外延层上方生长P型氮化镓外延层;/n对所述P型氮化镓外延层和所述第一轻掺杂N型氮化镓外延层进行刻蚀,以形成贯穿于所述P型氮化镓外延层的刻蚀图形;/n在含有所述刻蚀图形的P型氮化镓外延层上方生长第二轻掺杂N型氮化镓外延层;/n制作阳极和阴极,以形成所述氮化镓基功率二极管。/n
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