[发明专利]曝光装置、利用该曝光装置的器件制造系统和器件制造方法以及图案曝光方法有效
申请号: | 201611264164.0 | 申请日: | 2014-03-24 |
公开(公告)号: | CN106933066B | 公开(公告)日: | 2018-10-23 |
发明(设计)人: | 加藤正纪;铃木智也;鬼头义昭;堀正和;林田洋祐;木内彻 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/24 | 分类号: | G03F7/24 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 陈伟;闫剑平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 具有:第一支承构件,其以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承光罩和基板中的一方;第二支承构件,其以沿着规定的第二面的方式来支承光罩和基板中的另一方;和移动机构,其使第一支承构件旋转,并且使第二支承构件移动,使光罩和基板在扫描曝光方向上移动,投影光学系统利用包含与垂直于投影区域的扫描曝光方向的中心的线大致平行的主光线在内的投影光束,在规定的投影像面上形成图案的像,移动机构设定第一支承构件的移动速度以及第二支承构件的移动速度,使得图案的投影像面和基板的曝光面中的曲率较大的面或者成为平面一侧的移动速度相对小于另一方的移动速度。 | ||
搜索关键词: | 曝光 装置 利用 器件 制造 系统 方法 以及 图案 | ||
【主权项】:
1.一种曝光装置,其特征在于,具有:照明光学系统,其将照明光传导至圆筒光罩,该圆筒光罩在相对于第一轴线以规定的曲率半径弯曲而成的曲面的外周面上具有图案;基板支承筒,其具有相对于以与所述第一轴线平行的关系配置的第二轴线以规定的半径弯曲而成的外周面,沿着该外周面卷绕地支承有挠性的基板,并以所述第二轴线为中心进行旋转;投影光学系统,其将被所述照明光照明的所述圆筒光罩的所述图案投影至由所述基板支承筒的所述外周面支承的所述基板;更换机构,其更换所述圆筒光罩;和调整部,其在所述更换机构将所述圆筒光罩更换为直径不同的圆筒光罩时,对所述照明光学系统的至少一部分和所述投影光学系统的至少一部分中的至少一方进行调整。
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