[实用新型]用于硅片清洗设备的过滤器有效
| 申请号： | 201620033515.6 | 申请日： | 2016-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN205340279U | 公开（公告）日： | 2016-06-29 |
| 发明（设计）人： | 曹四辉 | 申请（专利权）人： | 常州天合光能有限公司;湖北天合光能有限公司 |
| 主分类号： | B01D29/33 | 分类号： | B01D29/33 |
| 代理公司： | 浙江永鼎律师事务所 33233 | 代理人： | 郭小丽 |
| 地址： | 213031 江苏省常*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于硅片清洗设备的过滤器，属于太阳电池制造设备技术领域，包括罩设于主槽体溢流口处的本体，该本体内形成连通溢流口的引水腔，本体的顶面和侧面上均设有连通引水腔的过滤孔，本体具有连接主槽体的底部。本实用新型具有结构简单，容易实现，且过滤效果好，结构牢固，还能保持液体流通通畅。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 硅片 清洗 设备 过滤器 | ||
【主权项】：
一种用于硅片清洗设备的过滤器，其特征在于：包括罩设于主槽体（100）溢流口处的本体（1），该本体（1）内形成连通溢流口的引水腔，本体（1）的顶面和侧面上均设有连通引水腔的过滤孔（11），本体（1）具有连接主槽体（100）的底部。
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