[实用新型]一种匀胶机用免清洗罩有效
| 申请号： | 201620038287.1 | 申请日： | 2016-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN205308728U | 公开（公告）日： | 2016-06-15 |
| 发明（设计）人： | 王云翔 | 申请（专利权）人： | 苏州美图半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | B05C11/00 | 分类号： | B05C11/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215123 江苏省苏州市工业*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及到微纳米技术领域，尤其涉及一种匀胶机用免清洗罩。该匀胶机包括罩底、罩沿和安装孔，该清洗罩罩底上设有四个环形槽，还均匀分布有十二条径向槽，此方法设计的免清洗的罩子可以一次性使用，省力、省事又省时，也避免了清洗匀胶机机台的损耗，减少了劳力，降低了成本，简单耐用易安装。该新型匀胶机设计合理，使用方便快捷，适合推广使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 匀胶机用免 清洗 | ||
【主权项】：
一种匀胶机用免清洗罩，包括罩底（1）、罩沿（2）和安装孔（3），其特征在于：所述罩底（1）的外沿上设有罩沿（2），所述罩沿（2）的高度为8厘米，所述罩底（1）的中心设有安装孔（3），所述罩底（1）上设有四个环形槽（4），所述罩底（1）上均匀分布有十二条径向槽（5）。
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