[实用新型]低色偏耐绕曲阻隔膜有效
| 申请号： | 201620047247.3 | 申请日： | 2016-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN205385058U | 公开（公告）日： | 2016-07-13 |
| 发明（设计）人： | 胡文玮 | 申请（专利权）人： | 汕头万顺包装材料股份有限公司;汕头万顺包装材料股份有限公司光电薄膜分公司 |
| 主分类号： | H01M2/16 | 分类号： | H01M2/16 |
| 代理公司： | 广州市深研专利事务所 44229 | 代理人： | 张喜安 |
| 地址： | 515078 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种低色偏耐绕曲阻隔膜，包括基材层，依序层设在基材层顶面上的SiNx层、SiOy层与有机涂层，以及设置在基材层底面的背涂层，其中，SiNx层厚度在20nm至120nm之间，x取值1至4/3之间，SiOy层的厚度在3nm至40nm之间，y取值1.8至2之间。本实用新型所述的低色偏耐绕曲阻隔膜透过率高，低色偏，阻隔效果佳。 | ||
| 搜索关键词： | 低色偏耐绕曲 阻隔 | ||
【主权项】：
一种低色偏耐绕曲阻隔膜，包括基材层，其特征在于：低色偏耐绕曲阻隔膜包括依序层设在基材层顶面上的SiNx层、SiOy层与有机涂层，以及设置在基材层底面的背涂层，其中，SiNx层的厚度在3nm至40nm之间，x取值1至4/3之间，SiOy层厚度在20nm至120nm之间，y取值1.8至2之间。
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