[实用新型]基板的清洗装置有效

专利信息
申请号: 201620064362.1 申请日: 2016-01-22
公开(公告)号: CN205324225U 公开(公告)日: 2016-06-22
发明(设计)人: 甄常刮 申请(专利权)人: 纳晶科技股份有限公司
主分类号: B08B1/02 分类号: B08B1/02;B08B3/02;B08B3/08;F26B5/14
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 310052 浙江省杭州市滨*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型提供了基板的清洗装置,旨在解决现有的清洗装置清洗基板时清洗效果差的问题。基板的清洗装置,包括清洗槽、高压喷水装置和擦拭装置;清洗槽包括槽体、转动装置和喷气装置;基板水平安装在转动装置上且在转动装置的带动下在水平面内旋转;喷气装置设置在槽体内壁上且朝向基板的中心区域喷气;槽体上设有排水装置;高压喷水装置包括第一机械臂和高压喷头,第一机械臂控制高压喷头进入槽体内且朝向基板喷出高压水。擦拭装置可以将基板表面擦拭干净。高压喷水装置可以将擦拭后残留在基板上的泥污冲洗干净;此外,基板在转动装置的带动下在水平面内旋转,在旋转时,对基板进行高压喷水可以将基板死角内的污垢清理干净,提高了清洗效果。
搜索关键词: 清洗 装置
【主权项】:
基板的清洗装置,其特征是:包括清洗槽、高压喷水装置和用于擦拭基板(01)的擦拭装置;清洗槽包括槽体(1)、转动装置和喷气装置;转动装置设置在槽体(1)内,基板(01)水平安装在转动装置上且在转动装置的带动下在水平面内旋转;喷气装置设置在槽体(1)内壁上且朝向基板(01)的中心区域喷气;槽体(1)上设有排水装置;高压喷水装置包括第一机械臂(61)和高压喷头(62),第一机械臂(61)控制高压喷头(62)进入槽体(1)内且朝向基板(01)喷出高压水。
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