[实用新型]用于将元件载体暴露在光下的设备有效
| 申请号： | 201620085600.7 | 申请日： | 2016-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN205787588U | 公开（公告）日： | 2016-12-07 |
| 发明（设计）人： | 安妮·泰;乔尔达诺-玛利亚·迪格雷戈里奥;李涛 | 申请（专利权）人： | 奥特斯(中国)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H05K3/06 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司11002 | 代理人： | 瞿卫军;张晶 |
| 地址： | 201108 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种用于将元件载体(170)暴露在光下的设备(100)，设备(100)包括：第一容纳板(110)，用于在第一位置容纳元件载体(170)；检测单元(120)，用于检测元件载体(170)的至少一个几何性质；以及选择单元(130)，其被配置为基于元件载体(170)的至少一个检测的几何性质确定用于在第二位置容纳元件载体(170)的第二容纳板(210)的至少一个期望的特性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 元件 载体 暴露 设备 | ||
【主权项】：
一种用于将元件载体(170)暴露在光下的设备(100)，其特征在于，所述设备(100)包括：第一容纳板(110)，用于在第一位置容纳所述元件载体(170)；检测单元(120)，用于检测所述元件载体(170)的至少一个几何性质；以及选择单元(130)，其被配置为用于基于所述元件载体(170)的至少一个检测的几何性质确定用于在第二位置容纳所述元件载体(170)的第二容纳板(210)的至少一个期望的特性。
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