[实用新型]一种炉管装置有效
申请号: | 201620133333.6 | 申请日: | 2016-02-22 |
公开(公告)号: | CN205368494U | 公开(公告)日: | 2016-07-06 |
发明(设计)人: | 李军;范建国;沈建飞 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 100176 北京市大兴区大*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型提供一种炉管装置,所述炉管装置包括一与晶舟同步旋转的触发部,所述触发部周围设有一可做水平圆周运动的位置传感器,且所述位置传感器与所述触发部的运动轨迹同心。本实用新型的炉管装置中,晶舟位置传感器为非固定状态,且所述位置传感器与触发器的运动轨迹同心,可以实时根据不同制程的需求来调整晶舟在反应腔里面的位置。在制程开始前,可将所述位置传感器调整到预设初始位置,所述触发器进而转动到所述位置传感器处,使得晶舟位于该初始位置,从而在制程开始的关键时段,反应气体不会被晶柱挡住,使得淀积的薄膜电阻分布均匀。 | ||
搜索关键词: | 一种 炉管 装置 | ||
【主权项】:
一种炉管装置,包括:基座;设于所述基座上的外管及内管,且所述内管位于所述外管内;设于所述内管中的用于承载晶圆的晶舟,所述晶舟通过一晶舟承载装置装设于所述基座上;所述晶舟包括上底及下底,所述上底与下底之间连接有至少三根晶柱;设于所述基座侧壁上的至少一条进气管道;所述进气管道与所述内管连通,并通过设于所述基座上的喷嘴向所述内管输送气体;其特征在于:所述晶舟承载装置与一旋转驱动装置相连,在所述旋转驱动装置的驱动作用下轴旋转,并带动所述晶舟轴旋转;所述炉管装置还包括一与所述晶舟同步旋转的触发部,所述触发部周围设有一可做水平圆周运动的位置传感器,且所述位置传感器与所述触发部的运动轨迹同心。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的