[实用新型]显示器件的对位检测设备及曝光工艺系统有效

专利信息
申请号: 201620226332.6 申请日: 2016-03-23
公开(公告)号: CN205427436U 公开(公告)日: 2016-08-03
发明(设计)人: 张磊;代伍坤;陈磊;李嘉鹏;董宜萍 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;陈源
地址: 100176 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型提供的显示器件的对位检测设备及曝光工艺系统,其包括用于承载显示器件的承载架、控制装置、检测装置和分析装置,其中,控制装置用于在承载架处于工艺间的空闲时间时,根据预先存储的显示器件的对中位置的坐标信息,向检测装置发送控制指令。检测装置用于根据控制装置的控制指令移动至承载架上显示器件的对中位置,并采集该位置的图像,且将图像发送至分析装置。分析装置用于判断显示器件的对中情况。本实用新型提供的显示器件的对位检测设备,其无需测量显示器件的关键尺寸就可以判断显示器件的对中情况,从而可以提高检测效率,从而可以实现对全部的显示器件进行检测,进而可以提高产品质量。
搜索关键词: 显示 器件 对位 检测 设备 曝光 工艺 系统
【主权项】:
一种显示器件的对位检测设备,包括用于承载所述显示器件的承载架,其特征在于,还包括控制装置、检测装置和分析装置,其中,所述控制装置用于在所述承载架处于工艺间的空闲时间时,根据预先存储的所述显示器件的对中位置的坐标信息,向所述检测装置发送控制指令;所述检测装置用于根据所述控制装置的控制指令移动至所述承载架上所述显示器件的对中位置,并采集该位置的图像,且将所述图像发送至所述分析装置;所述分析装置用于分析处理所述显示器件的对中情况。
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