[实用新型]使用G-D同面的MOSFET实现反向阻断的多芯片封装结构有效

专利信息
申请号: 201620258046.8 申请日: 2016-03-30
公开(公告)号: CN205488094U 公开(公告)日: 2016-08-17
发明(设计)人: 白玉明;杜丽娜;张海涛 申请(专利权)人: 无锡同方微电子有限公司
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 曹祖良
地址: 214135 江苏省无锡市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉MOSFET的多芯片封装结构,尤其是使用G‑D同面的MOSFET实现反向阻断的多芯片封装结构,包括第一芯片、第二芯片、第三芯片和包封体,其特征在于:所述第一芯片的背面焊接在包封体的底部,所述第二芯片正面朝上设于第一芯片上,所述第三芯片位于第一芯片和第二芯片侧面,所述第三芯片的背面焊接在包封体的底部,所述第一芯片和第二芯片均为MOSFET器件,所述第三芯片为快速恢复二极管。所述的这种MOSFET多芯片封装结构能够有效阻断反向寄生二极管开启,使器件续流电流流经第三芯片,在半桥、全桥电路中,可大大降低器件反向恢复产生的损耗,提升整个电路的可靠性。
搜索关键词: 使用 mosfet 实现 反向 阻断 芯片 封装 结构
【主权项】:
一种使用G‑D同面的MOSFET实现反向阻断的多芯片封装结构,包括第一芯片(1)、第二芯片(2)、第三芯片(3)和包封体(4),其特征在于:所述第一芯片(1)的背面焊接在包封体(4)的底部,所述第二芯片(2)正面朝上设于第一芯片(1)上,所述第三芯片(3)位于第一芯片(1)和第二芯片(2)侧面,所述第三芯片(3)的背面焊接在包封体(4)的底部;所述第一芯片(1)和第二芯片(2)均为MOSFET器件,所述第一芯片(1)的正面设有第一栅极(1.1)、第一源极(1.3)和G极(1.4),背面设有第一漏极(1.2),所述第二芯片(2)的正面设有第二栅极(2.1)和第二漏极(2.2),背面设有第二源极(2.3);所述第三芯片(3)为快速恢复二极管,所述快速恢复二极管的正面和背面分别设有正极(3.1)和负极(3.2);所述第一栅极(1.1)和G极(1.4)是相互导通的,所述第一栅极(1.1)和第二栅极(2.1)通过打线连接,所述第一源极(1.3)和第二源极(2.3)焊接;所述包封体(4)的引出端为栅极(5)、漏极(6)和源极(7),所述栅极(5)与G极(1.4)通过打线连接,所述漏极(6)与包封体(4)的底部焊接,所述源极(7)与第二漏极(2.2)、正极(3.1)均通过打线连接。
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